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按成膜機理分類，薄膜的制備方法可大致分為物理方法和化學方法兩大類。
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)是利用某種物理過程，如物質的熱蒸發或在受到粒子束轟擊時物質表面原子的濺射等現象，實現物質從原物質到薄膜的可控的原子轉移過程。物理氣相沉積的主要特點是:
(1)需要使用固態的或者熔化態的物質作為沉積過程的原物質；
